5 Publikationen

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[5]
2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1590772
CVD of Conducting Ultrathin Copper Films
Bahlawane N, Premkumar PA, Reilmann F, Kohse-Höinghaus K, Wang J, Qi F, Gehl B, Bäumer M (2009)
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 156(10): D452-D455.
PUB | DOI | WoS
 
[4]
2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586060
Low-temperature thermolysis behavior of tetramethyl- and tetraethyldistibines
Bahlawane N, Reilmann F, Schulz S, Schuchmann D, Kohse-Höinghaus K (2008)
JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY 19(9): 1336-1342.
PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
 
[3]
2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586928
Mass-spectrometric monitoring of the thermally induced decomposition of trimethylgallium, tris(tert-butyl) gallium, and triethylantimony at low pressure conditions
Bahlawane N, Reilmann F, Salameh L-C, Kohse-Höinghaus K (2008)
JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY 19(7): 947-954.
PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
 
[2]
2007 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1632420
Single source precursor-based HV-MOCVD deposition of binary group 13-antimonide thin films
Schulz S, Fahrenholz S, Schuchmann D, Kuczkowski A, Assenmacher W, Reilmann F, Bahlawane N, Kohse-Höinghaus K (2007)
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 201(22-23): 9071-9075.
PUB | DOI | WoS
 
[1]
2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2325519
Chemical vapor deposition of nickel thin films of glass using nickel acetylacetonate
Gesthuizen J, Huerta Miguelanez A, Reilmann F, Ros R, Bahlawane N (2005)
In: PROCEEDINGS OF EUROCVD-15. The Electrochemical Society: 659-666.
PUB
 

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CVD of Conducting Ultrathin Copper Films
Bahlawane N, Premkumar PA, Reilmann F, Kohse-Höinghaus K, Wang J, Qi F, Gehl B, Bäumer M (2009)
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 156(10): D452-D455.
PUB | DOI | WoS
 
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Low-temperature thermolysis behavior of tetramethyl- and tetraethyldistibines
Bahlawane N, Reilmann F, Schulz S, Schuchmann D, Kohse-Höinghaus K (2008)
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Bahlawane N, Reilmann F, Salameh L-C, Kohse-Höinghaus K (2008)
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2007 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1632420
Single source precursor-based HV-MOCVD deposition of binary group 13-antimonide thin films
Schulz S, Fahrenholz S, Schuchmann D, Kuczkowski A, Assenmacher W, Reilmann F, Bahlawane N, Kohse-Höinghaus K (2007)
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 201(22-23): 9071-9075.
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2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2325519
Chemical vapor deposition of nickel thin films of glass using nickel acetylacetonate
Gesthuizen J, Huerta Miguelanez A, Reilmann F, Ros R, Bahlawane N (2005)
In: PROCEEDINGS OF EUROCVD-15. The Electrochemical Society: 659-666.
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