Frank Reilmann
PEVZ-ID
5 Publikationen
-
2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1590772CVD of Conducting Ultrathin Copper FilmsPUB | DOI | WoS
Bahlawane N, Premkumar PA, Reilmann F, Kohse-Höinghaus K, Wang J, Qi F, Gehl B, Bäumer M (2009)
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 156(10): D452-D455. -
2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586060Low-temperature thermolysis behavior of tetramethyl- and tetraethyldistibinesPUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
Bahlawane N, Reilmann F, Schulz S, Schuchmann D, Kohse-Höinghaus K (2008)
JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY 19(9): 1336-1342. -
2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586928Mass-spectrometric monitoring of the thermally induced decomposition of trimethylgallium, tris(tert-butyl) gallium, and triethylantimony at low pressure conditionsPUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
Bahlawane N, Reilmann F, Salameh L-C, Kohse-Höinghaus K (2008)
JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY 19(7): 947-954. -
2007 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1632420Single source precursor-based HV-MOCVD deposition of binary group 13-antimonide thin filmsPUB | DOI | WoS
Schulz S, Fahrenholz S, Schuchmann D, Kuczkowski A, Assenmacher W, Reilmann F, Bahlawane N, Kohse-Höinghaus K (2007)
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 201(22-23): 9071-9075. -
2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2325519Chemical vapor deposition of nickel thin films of glass using nickel acetylacetonatePUB
Gesthuizen J, Huerta Miguelanez A, Reilmann F, Ros R, Bahlawane N (2005)
In: PROCEEDINGS OF EUROCVD-15. The Electrochemical Society: 659-666.