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  • [5]
    2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1590772
    Bahlawane, N.; Premkumar, P. A.; Reilmann, F.; Kohse-Höinghaus, K.; Wang, J.; Qi, F.; Gehl, B.; Bäumer, M. (2009): CVD of Conducting Ultrathin Copper Films JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,156:(10): D452-D455.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [4]
    2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586060
    Bahlawane, N.; Reilmann, F.; Schulz, S.; Schuchmann, D.; Kohse-Höinghaus, K. (2008): Low-temperature thermolysis behavior of tetramethyl- and tetraethyldistibines JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY,19:(9): 1336-1342.
    PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
     
  • [3]
    2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586928
    Bahlawane, N.; Reilmann, F.; Salameh, L. - C.; Kohse-Höinghaus, K. (2008): Mass-spectrometric monitoring of the thermally induced decomposition of trimethylgallium, tris(tert-butyl) gallium, and triethylantimony at low pressure conditions JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY,19:(7): 947-954.
    PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
     
  • [2]
    2007 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1632420
    Schulz, S.; Fahrenholz, S.; Schuchmann, D.; Kuczkowski, A.; Assenmacher, W.; Reilmann, F.; Bahlawane, N.; Kohse-Höinghaus, K. (2007): Single source precursor-based HV-MOCVD deposition of binary group 13-antimonide thin films SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY,201:(22-23): 9071-9075.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [1]
    2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2325519
    Gesthuizen, J.; Huerta Miguelanez, A.; Reilmann, F.; Ros, R.; Bahlawane, N. (2005): Chemical vapor deposition of nickel thin films of glass using nickel acetylacetonate. In: PROCEEDINGS OF EUROCVD-15. The Electrochemical Society. S. 659-666.
    PUB
     

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