PUB - Publikationen an der Universität Bielefeld

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  2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1590772

  Bahlawane, N., Premkumar, P.A., Reilmann, F., Kohse-Höinghaus, K., Wang, J., Qi, F., Gehl, B., Bäumer, M.: CVD of Conducting Ultrathin Copper Films. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. 156, D452-D455 (2009).

  PUB | DOI | WoS
   
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  2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586060

  Bahlawane, N., Reilmann, F., Schulz, S., Schuchmann, D., Kohse-Höinghaus, K.: Low-temperature thermolysis behavior of tetramethyl- and tetraethyldistibines. JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY. 19, 1336-1342 (2008).

  PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
   
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  2008 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1586928

  Bahlawane, N., Reilmann, F., Salameh, L.-C., Kohse-Höinghaus, K.: Mass-spectrometric monitoring of the thermally induced decomposition of trimethylgallium, tris(tert-butyl) gallium, and triethylantimony at low pressure conditions. JOURNAL OF THE AMERICAN SOCIETY FOR MASS SPECTROMETRY. 19, 947-954 (2008).

  PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
   
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  2007 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1632420

  Schulz, S., Fahrenholz, S., Schuchmann, D., Kuczkowski, A., Assenmacher, W., Reilmann, F., Bahlawane, N., Kohse-Höinghaus, K.: Single source precursor-based HV-MOCVD deposition of binary group 13-antimonide thin films. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 201, 9071-9075 (2007).

  PUB | DOI | WoS
   
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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2325519

  Gesthuizen, J., Huerta Miguelanez, A., Reilmann, F., Ros, R., Bahlawane, N.: Chemical vapor deposition of nickel thin films of glass using nickel acetylacetonate. PROCEEDINGS OF EUROCVD-15. p. 659-666. The Electrochemical Society (2005).

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