Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren

Hamelmann F (2000) Berichte aus der Physik.
Aachen: Shaker.

Dissertation | Deutsch
 
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Stichworte
Silicium; Wolfram; MOCVD-Verfahren; Mehrschichtsystem
Erscheinungsjahr
2000
Seite(n)
104
ISBN
3-8265-7014-6
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2433882

Zitieren

Hamelmann F. Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren. Berichte aus der Physik. Aachen: Shaker; 2000.
Hamelmann, F. (2000). Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren (Berichte aus der Physik). Aachen: Shaker.
Hamelmann, F. (2000). Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren. Berichte aus der Physik, Aachen: Shaker.
Hamelmann, F., 2000. Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren, Berichte aus der Physik, Aachen: Shaker.
F. Hamelmann, Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren, Berichte aus der Physik, Aachen: Shaker, 2000.
Hamelmann, F.: Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren. Berichte aus der Physik. Shaker, Aachen (2000).
Hamelmann, Frank. Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren. Aachen: Shaker, 2000. Berichte aus der Physik.

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