Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films

Hamelmann F, Haindl G, Aschentrup A, Klipp A, Kleineberg U, Jutzi P, Heinzmann U (2000)
In: Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV. Allendorf MD, Besman TM (Eds); 131.

Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | Englisch
 
Download
Es wurden keine Dateien hochgeladen. Nur Publikationsnachweis!
Autor*in
Hamelmann, FrankUniBi; Haindl, G.; Aschentrup, A.; Klipp, A.; Kleineberg, U.; Jutzi, PeterUniBi; Heinzmann, UlrichUniBi
Herausgeber*in
Allendorf, M.D.; Besman, T.M.
Erscheinungsjahr
2000
Titel des Konferenzbandes
Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV
Seite(n)
131
Konferenz
Chemical Vapor Deposition CVD XV
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/1958189

Zitieren

Hamelmann F, Haindl G, Aschentrup A, et al. Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films. In: Allendorf MD, Besman TM, eds. Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV. 2000: 131.
Hamelmann, F., Haindl, G., Aschentrup, A., Klipp, A., Kleineberg, U., Jutzi, P., & Heinzmann, U. (2000). Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films. In M. D. Allendorf & T. M. Besman (Eds.), Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV (p. 131).
Hamelmann, F., Haindl, G., Aschentrup, A., Klipp, A., Kleineberg, U., Jutzi, P., and Heinzmann, U. (2000). “Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films” in Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV, Allendorf, M. D., and Besman, T. M. eds. 131.
Hamelmann, F., et al., 2000. Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films. In M. D. Allendorf & T. M. Besman, eds. Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV. pp. 131.
F. Hamelmann, et al., “Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films”, Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV, M.D. Allendorf and T.M. Besman, eds., 2000, pp.131.
Hamelmann, F., Haindl, G., Aschentrup, A., Klipp, A., Kleineberg, U., Jutzi, P., Heinzmann, U.: Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films. In: Allendorf, M.D. and Besman, T.M. (eds.) Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV. p. 131. (2000).
Hamelmann, Frank, Haindl, G., Aschentrup, A., Klipp, A., Kleineberg, U., Jutzi, Peter, and Heinzmann, Ulrich. “Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films”. Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV. Ed. M.D. Allendorf and T.M. Besman. 2000. 131.

Export

Markieren/ Markierung löschen
Markierte Publikationen

Open Data PUB

Suchen in

Google Scholar