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3 Publikationen

2006 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1601030
Plasma-assisted chemical vapor deposited silicon oxynitride as an alternative material for gate dielectric in MOS devices
Szekeres A, Nikolova T, Simeonov S, Gushterov A, Hamelmann F, Heinzmann U (2006)
MICROELECTRONICS JOURNAL 37(1): 64-70.
PUB | DOI | WoS
 
2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604367
Electrical properties of plasma-assisted CVD deposited thin silicon oxynitride films
Szekeres A, Simeonov S, Gushterov A, Nikolova T, Hamelmann F, Heinzmann U (2005)
JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS 7(1): 553-556.
PUB | WoS
 
1994 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1929060
PREPARATIVE AND SPECTROSCOPIC STUDIES ON VOLATILE SILYLHYDROXYLAMINES AND ALKYLHYDROXYLAMINES
Mitzel NW, SCHMIDBAUR H (1994)
ZEITSCHRIFT FUR ANORGANISCHE UND ALLGEMEINE CHEMIE 620(6): 1087-1092.
PUB | DOI | WoS
 

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