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1 Publikation

1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1621602
Application of reactive ion etching to the fabrication of microstructure on Mo/Si multilayer
Le ZC, Dreeskornfeld L, Rahn S, Segler R, Kleineberg U, Heinzmann U (1999)
CHINESE PHYSICS LETTERS 16(9): 665-666.
PUB | DOI | WoS
 

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