Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering

Fabretti S, Thomas P, Reiss G, Thomas A (2010)
In: Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, 45(3). .

Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | Englisch
 
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Abstract / Bemerkung
MgB2 is an intermetallic compound with a high critical temperature of Tc=40 K. The simple crystal structure, large coherence length and the high critical current density makes thin magnesium diboride films attractive for superconducting applications like Josephson junctions. To fabricate thin MgB2 films, we used a magnetron co-sputtering system with a Mg and a B target respectively. The films were deposited by dc-magnetron sputtering of Mg and rf-magnetron sputtering of B at a low substrate temperature between 210 circle C and 260 circle C without a post annealing process. The differences in vacuum pressure between Mg and B make it essential that the composition ratio is controlled by different sputtering power of each target. The crystal structure was measured by X-ray diffraction and transport investigations at low temperatures were performed.
Erscheinungsjahr
2010
Titel des Konferenzbandes
Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft
forms.conference.field.series_title_volume.series_title.label
Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft
Band
45
Ausgabe
3
Konferenz
DPG Spring meeting of the condensed matter section (SKM) together with the divisions microprobes, radiation and medical physics and working groups industry and business, young DPG
Konferenzort
Regensburg
Konferenzdatum
2010-03-21 – 2010-03-26
ISSN
0420-0195
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2960879

Zitieren

Fabretti S, Thomas P, Reiss G, Thomas A. Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering. In: Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. Vol 45. 2010.
Fabretti, S., Thomas, P., Reiss, G., & Thomas, A. (2010). Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, 45
Fabretti, S., Thomas, P., Reiss, G., and Thomas, A. (2010). “Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering” in Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, vol. 45,.
Fabretti, S., et al., 2010. Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering. In Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. no.45
S. Fabretti, et al., “Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering”, Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, vol. 45, 2010.
Fabretti, S., Thomas, P., Reiss, G., Thomas, A.: Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. 45, (2010).
Fabretti, Savio, Thomas, Patrick, Reiss, Günter, and Thomas, Andy. “Fabrication of MgB2 thin films by co-sputtering”. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft. 2010.Vol. 45. Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft.

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