Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold

Soleymanzadeh B, Beyer W, Lükermann F, Prunici P, Pfeiffer W, Stiebig H (2014)
MRS Proc. 1666: mrss14-1666-a17-01.

Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | Englisch
 
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Autor*in
Soleymanzadeh, BabakUniBi; Beyer, W.; Lükermann, F.; Prunici, P.; Pfeiffer, W.; Stiebig, HelmutUniBi
Erscheinungsjahr
2014
Zeitschriftentitel
MRS Proc.
Band
1666
Art.-Nr.
mrss14-1666-a17-01
ISSN
1946-4274
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2902795

Zitieren

Soleymanzadeh B, Beyer W, Lükermann F, Prunici P, Pfeiffer W, Stiebig H. Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold. MRS Proc. 2014;1666: mrss14-1666-a17-01.
Soleymanzadeh, B., Beyer, W., Lükermann, F., Prunici, P., Pfeiffer, W., & Stiebig, H. (2014). Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold. MRS Proc., 1666, mrss14-1666-a17-01. doi:10.1557/opl.2014.721
Soleymanzadeh, B., Beyer, W., Lükermann, F., Prunici, P., Pfeiffer, W., and Stiebig, H. (2014). Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold. MRS Proc. 1666:mrss14-1666-a17-01.
Soleymanzadeh, B., et al., 2014. Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold. MRS Proc., 1666: mrss14-1666-a17-01.
B. Soleymanzadeh, et al., “Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold”, MRS Proc., vol. 1666, 2014, : mrss14-1666-a17-01.
Soleymanzadeh, B., Beyer, W., Lükermann, F., Prunici, P., Pfeiffer, W., Stiebig, H.: Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold. MRS Proc. 1666, : mrss14-1666-a17-01 (2014).
Soleymanzadeh, Babak, Beyer, W., Lükermann, F., Prunici, P., Pfeiffer, W., and Stiebig, Helmut. “Femtosecond laser materials processing of a-Si:H below the ablation threshold”. MRS Proc. 1666 (2014): mrss14-1666-a17-01.

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