Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy
Tchoua, Ngamou PH, El Kasmi A, Weiss T, Vieker H, Beyer A, Zielasek V, Kohse-Höinghaus K, Bäumer M (2015)
ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE 229(10-12): 1887-1905.
Zeitschriftenaufsatz
| Veröffentlicht | Englisch
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Autor*in
Tchoua, Ngamou, Patrick Hervé;
El Kasmi, Achraf;
Weiss, Theodor;
Vieker, Henning;
Beyer, AndréUniBi 
;
Zielasek, Volker;
Kohse-Höinghaus, KatharinaUniBi;
Bäumer, Marcus
;
Zielasek, Volker;
Kohse-Höinghaus, KatharinaUniBi;
Bäumer, MarcusEinrichtung
Erscheinungsjahr
2015
Zeitschriftentitel
ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE
Band
229
Ausgabe
10-12
Seite(n)
1887-1905
ISSN
0942-9352
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2785454
Zitieren
Tchoua, Ngamou PH, El Kasmi A, Weiss T, et al. Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE. 2015;229(10-12):1887-1905.
Tchoua, Ngamou, P. H., El Kasmi, A., Weiss, T., Vieker, H., Beyer, A., Zielasek, V., Kohse-Höinghaus, K., et al. (2015). Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE, 229(10-12), 1887-1905. doi:10.1515/zpch-2015-0602
Tchoua, Ngamou, Patrick Hervé, El Kasmi, Achraf, Weiss, Theodor, Vieker, Henning, Beyer, André, Zielasek, Volker, Kohse-Höinghaus, Katharina, and Bäumer, Marcus. 2015. “Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy”. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE 229 (10-12): 1887-1905.
Tchoua, Ngamou, P. H., El Kasmi, A., Weiss, T., Vieker, H., Beyer, A., Zielasek, V., Kohse-Höinghaus, K., and Bäumer, M. (2015). Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE 229, 1887-1905.
Tchoua, Ngamou, P.H., et al., 2015. Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE, 229(10-12), p 1887-1905.
P.H. Tchoua, Ngamou, et al., “Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy”, ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE, vol. 229, 2015, pp. 1887-1905.
Tchoua, Ngamou, P.H., El Kasmi, A., Weiss, T., Vieker, H., Beyer, A., Zielasek, V., Kohse-Höinghaus, K., Bäumer, M.: Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE. 229, 1887-1905 (2015).
Tchoua, Ngamou, Patrick Hervé, El Kasmi, Achraf, Weiss, Theodor, Vieker, Henning, Beyer, André, Zielasek, Volker, Kohse-Höinghaus, Katharina, and Bäumer, Marcus. “Investigation of the growth behaviour of cobalt thin films from chemical vapour deposition, using directly coupled X-ray photoelectron spectroscopy”. ZEITSCHRIFT FÜR PHYSIKALISCHE CHEMIE 229.10-12 (2015): 1887-1905.
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