Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors
Chan KY, Bunte E, Stiebig H, Knipp D (2007)
J. Appl. Phys. 101(7): 74503.
Zeitschriftenaufsatz
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Autor*in
Chan, K.Y.;
Bunte, E.;
Stiebig, HelmutUniBi;
Knipp, D.
Erscheinungsjahr
2007
Zeitschriftentitel
J. Appl. Phys.
Band
101
Ausgabe
7
Art.-Nr.
74503
ISSN
0021-8979
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2343742
Zitieren
Chan KY, Bunte E, Stiebig H, Knipp D. Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors. J. Appl. Phys. 2007;101(7): 74503.
Chan, K. Y., Bunte, E., Stiebig, H., & Knipp, D. (2007). Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors. J. Appl. Phys., 101(7), 74503. https://doi.org/10.1063/1.2710762
Chan, K.Y., Bunte, E., Stiebig, Helmut, and Knipp, D. 2007. “Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors”. J. Appl. Phys. 101 (7): 74503.
Chan, K. Y., Bunte, E., Stiebig, H., and Knipp, D. (2007). Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors. J. Appl. Phys. 101:74503.
Chan, K.Y., et al., 2007. Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors. J. Appl. Phys., 101(7): 74503.
K.Y. Chan, et al., “Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors”, J. Appl. Phys., vol. 101, 2007, : 74503.
Chan, K.Y., Bunte, E., Stiebig, H., Knipp, D.: Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors. J. Appl. Phys. 101, : 74503 (2007).
Chan, K.Y., Bunte, E., Stiebig, Helmut, and Knipp, D. “Influence of low temperature thermal annealing on the performance of microcrystalline silicon thin-film transistors”. J. Appl. Phys. 101.7 (2007): 74503.
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