Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions
Thon A, Klamroth T, Saalfrank P, Diesing D, Pfeiffer W (2004)
Appl. Phys. A 78(2): 189-199.
Zeitschriftenaufsatz
| Veröffentlicht | Englisch
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Autor*in
Thon, A.;
Klamroth, T.;
Saalfrank, P.;
Diesing, D.;
Pfeiffer, WalterUniBi
Einrichtung
Erscheinungsjahr
2004
Zeitschriftentitel
Appl. Phys. A
Band
78
Ausgabe
2
Seite(n)
189-199
ISSN
0947-8396
eISSN
1432-0630
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2315863
Zitieren
Thon A, Klamroth T, Saalfrank P, Diesing D, Pfeiffer W. Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions. Appl. Phys. A. 2004;78(2):189-199.
Thon, A., Klamroth, T., Saalfrank, P., Diesing, D., & Pfeiffer, W. (2004). Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions. Appl. Phys. A, 78(2), 189-199. https://doi.org/10.1007/s00339-003-2314-2
Thon, A., Klamroth, T., Saalfrank, P., Diesing, D., and Pfeiffer, Walter. 2004. “Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions”. Appl. Phys. A 78 (2): 189-199.
Thon, A., Klamroth, T., Saalfrank, P., Diesing, D., and Pfeiffer, W. (2004). Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions. Appl. Phys. A 78, 189-199.
Thon, A., et al., 2004. Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions. Appl. Phys. A, 78(2), p 189-199.
A. Thon, et al., “Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions”, Appl. Phys. A, vol. 78, 2004, pp. 189-199.
Thon, A., Klamroth, T., Saalfrank, P., Diesing, D., Pfeiffer, W.: Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions. Appl. Phys. A. 78, 189-199 (2004).
Thon, A., Klamroth, T., Saalfrank, P., Diesing, D., and Pfeiffer, Walter. “Photon-assisted tunneling versus tunneling of excited electrons in metal-insulator-metal junctions”. Appl. Phys. A 78.2 (2004): 189-199.
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