Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten

Aschentrup A (2003)
Bielefeld (Germany): Bielefeld University.

Bielefelder E-Dissertation | Deutsch
 
Download
OA
Autor*in
Aschentrup, Andreas
Betreuer*in
Heinzmann, Ulrich (Prof. Dr.)
Stichworte
Molybdän , Silicium , Mehrschichtsystem , MOCVD-Verfahren , Elektronenstrahlverdampfen , , Multilayer , Mo , Si , MOCVD , TEM
Jahr
2003
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2305500

Zitieren

Aschentrup A. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University; 2003.
Aschentrup, A. (2003). Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, A. (2003). Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, A., 2003. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
A. Aschentrup, Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2003.
Aschentrup, A.: Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld University, Bielefeld (Germany) (2003).
Aschentrup, Andreas. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2003.
Alle Dateien verfügbar unter der/den folgenden Lizenz(en):
Copyright Statement:
Dieses Objekt ist durch das Urheberrecht und/oder verwandte Schutzrechte geschützt. [...]
Volltext(e)
Access Level
OA Open Access
Zuletzt Hochgeladen
2019-09-06T08:57:48Z
MD5 Prüfsumme
2d84d638550d4d10b747c0f5f7fd4cef

Export

Markieren/ Markierung löschen
Markierte Publikationen

Open Data PUB

Suchen in

Google Scholar