Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten
Aschentrup A (2003)
Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Bielefelder E-Dissertation | Deutsch
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Autor*in
Aschentrup, Andreas
Gutachter*in / Betreuer*in
Heinzmann, Ulrich (Prof. Dr.)
Einrichtung
Stichworte
Molybdän , Silicium , Mehrschichtsystem , MOCVD-Verfahren , Elektronenstrahlverdampfen , , Multilayer , Mo , Si , MOCVD , TEM
Jahr
2003
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2305500
Zitieren
Aschentrup A. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University; 2003.
Aschentrup, A. (2003). Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, Andreas. 2003. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, A. (2003). Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, A., 2003. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
A. Aschentrup, Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2003.
Aschentrup, A.: Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld University, Bielefeld (Germany) (2003).
Aschentrup, Andreas. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2003.
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2019-09-06T08:57:48Z
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