Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen

Gauer J (2001)
Bielefeld (Germany): Bielefeld University.

Bielefelder E-Dissertation | Deutsch
 
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Autor*in
Gauer, Jürgen
Betreuer*in
Feldmann, Dirk (PD Dr.)
Abstract / Bemerkung
Mit der Messung der Winkelverteilung der Photoelektronen von atomarem Wasserstoff und von Xenon für die Laserwellenlängen [lambda] = 610 nm und [lambda] = 305 nm bei einer Pulsdauer von 400 fs ist die Identifizierung der Drehimpulse resonanter Zwischenzustände der MPI vorgenommen worden. Die Winkelverteilung der "Extra-Peak-Serie" des "Bielefeld-Experiments" zeigt einen hohen Drehimpulswert, der die Beteiligung höherer Rydbergzustände an dem MPI-Prozess vermuten lässt. Atome, die nach dem Multiphotonenprozess in hohen Rydbergzuständen mit n > 10 erhalten bleiben, sind für Wasserstoff mit einem Anteil von etwa 4 v.H. und für Xenon mit etwa 7 v.H. nachgewiesen worden. Diese Messungen sind ebenfalls mit zirkularer Strahlung durchgeführt worden. Die erstmaligen Messungen der Photoelektronen und der Ionen aus einer phasenabhängigen Bicolor-MPI von Wasserstoff für die Fundamentale Wellenlänge von 610 nm und die 2. Harmonische mit 305 nm zeigen eine deutliche Abhängigkeit der Ionisationsrate von der Phasenbeziehung der überlagerten Felder. Eine für diesen Prozess durchgeführte numerische Simulation von F. H. M. Faisal et al. wird durch diese Messung bestätigt.
Stichworte
Wasserstoffatom , Xenonatom , Mehrphotonenionisation , Laserimpuls , Femtosekundenbereich , Multiphotonenionisation (MPI) , Wasserstoff , Bicolor-MPI , Winkelverteilung ,
Jahr
2001
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2305435

Zitieren

Gauer J. Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen. Bielefeld (Germany): Bielefeld University; 2001.
Gauer, J. (2001). Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Gauer, J. (2001). Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Gauer, J., 2001. Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen, Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
J. Gauer, Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen, Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2001.
Gauer, J.: Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen. Bielefeld University, Bielefeld (Germany) (2001).
Gauer, Jürgen. Das Verhalten von atomarem Wasserstoff und Xenon in intensiven femtosekunden Laserpulsen. Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2001.
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