Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten

Czerkas S (2004)
Bielefeld (Germany): Bielefeld University.

Bielefelder E-Dissertation | Deutsch
 
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Autor*in
Czerkas, Slawomir
Betreuer*in
Reiss, Günter (Prof. Dr.)
Alternativer Titel
Investigations of thin aluminium oxide films
Abstract / Bemerkung
Methods to investigate the properties of thin aluminium oxide barriers on the nanometer scale were analysed. Dielectric breakdown was investigated by means of STM/STS. The lateral distribution of the barrier thickness was also determined.

In dieser Arbeit wurden Methoden zur Untersuchung von wichtigen Eigenschaften von Aluminiumoxid-Tunnelbarrieren auf der Nanometerskala analysiert. Insbesondere konnte mittels STM/STS der dielektrische Durchbruch lokal untersucht und die Verteilung der Barrierendicke lateral aufgelöst bestimmt werden.
Stichworte
Aluminiumoxide , Dünne Schicht , Tunnelmagnetowiderstand , Elektrischer Durchbruch , Rastertunnelmikroskopie , STM , Dünne Schichten , Magnetowiderstand , Rastertunnelmikroskop , Tunneleffekt , Oxidation , STM , TMR , Thin films
Jahr
2004
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2304635

Zitieren

Czerkas S. Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University; 2004.
Czerkas, S. (2004). Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Czerkas, S. (2004). Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Czerkas, S., 2004. Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
S. Czerkas, Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2004.
Czerkas, S.: Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten. Bielefeld University, Bielefeld (Germany) (2004).
Czerkas, Slawomir. Untersuchungen von dünnen Aluminiumoxid-Schichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2004.
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