Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik

Panhorst M (2000)
Bielefeld (Germany): Bielefeld University.

Bielefelder Masterarbeit | Deutsch
 
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Autor*in
Panhorst, Michael
Abstract / Bemerkung
Ziel dieser Arbeit war die Strukturierung dünner Schichten aus ferromagnetischen Materialien mit einem S-layer-Protein als Maske. Dazu wurden zuerst S-layer Stücke des Bakteriums Deinococcus Radiodurans auf einen Si-Wafer aufgebracht, darauf eine 2,5 nm dünne Schicht eines ferromagnetischen Metalls aufgesputtert und die Oberfläche schließlich mit Argonionen geätzt. Die Probenoberflächen wurden mit einem Rasterelektronenmikroskop und einem Kraftmikroskop untersucht. Für die verwendeten Metalle Kobalt (Co), Eisen (Fe), Eisen-Kobalt (Fe 50 Co 50), Kobalt-Nickel (Co 43 Ni 57), Permalloy (Ni 81 Fe 19) und Titan (Ti) wurden bei geeigneten Ätzparametern Nanostrukturen gefunden. Die Metallschicht hat jeweils die hexagonale Struktur des darunterliegenden S-layers angenommen, d.h. es wurden 10 nm große Punkte hergestellt, die in einer hexagonalen Struktur mit einer Gitterkonstante von a = b = 18 nm angeordnet sind.
Stichworte
Nanostruktur; Maske (Halbleitertechnologie); Nanostructures; Crystalline bacterial cell surface layer
Jahr
2000
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2303516

Zitieren

Panhorst M. Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik. Bielefeld (Germany): Bielefeld University; 2000.
Panhorst, M. (2000). Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Panhorst, M. (2000). Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Panhorst, M., 2000. Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik, Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
M. Panhorst, Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik, Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2000.
Panhorst, M.: Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik. Bielefeld University, Bielefeld (Germany) (2000).
Panhorst, Michael. Herstellung von Nanostrukturen mit S-layer Maskentechnik. Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2000.
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