PUB - Publikationen an der Universität Bielefeld

Schmalbandige EUV-Multischichtspiegel wurden mittels Elektronenstrahlverdampfung im UHV unter Variation des Verhältnisses [Gamma] zwischen Absorber- und Doppelschichtdicke hergestellt. Diese Multischichten wurden entwickelt für die spektrale Selektion einzelner Hoher Harmonischer einer fs-EUV-Quelle mit Photonenenergien unterhalb von 73 eV. Hierfür wird eine Bandbreite von [Delta]E FWHM <= 3 eV benötigt. Bei der Herstellung der Multischichten wird die Dicke jeder einzelnen Schicht mit dem in situ Röntgenreflektometer kontrolliert. Multischichten mit kleinen [Gamma]-Werten wurden hergestellt, indem die Verdampfer in jedem Maximum (Mo) und in jedem zweiten Minimum (Si) der in situ Reflektivitätskurve umgeschaltet wurden. Die Methoden Ionenpolieren und Substratheizen wurden für die Minimierung der Grenzflächenrauhigkeit angewendet und miteinander verglichen. Die Eigenschaften der Multischichtspiegel sind durch Reflektometrie mit harter und weicher Röntgenstrahlung sowie TEM-Querschnittsaufnahmen charakterisiert worden. Messungen mit Hohen Harmonischen aus fs-Laser Frequenzmischung zeigen, dass zwei dieser Multischichten in Serie eine ausreichend schmale Bandbreite besitzen, um z.B. die 45. Harmonische bei 69,8 eV zu selektieren.