Chemical Nanolithography with Electron Beams

Gölzhäuser A, Eck W, Geyer W, Stadler V, Weimann T, Hinze P, Grunze M (2001)
ADVANCED MATERIALS 13: 806.

Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | Englisch
 
Download
Es wurden keine Dateien hochgeladen. Nur Publikationsnachweis!
Autor*in
Gölzhäuser, ArminUniBi ; Eck, W.; Geyer, W.; Stadler, V.; Weimann, T.; Hinze, P.; Grunze, M.
Erscheinungsjahr
2001
Zeitschriftentitel
ADVANCED MATERIALS
Band
13
Seite(n)
806
ISSN
0935-9648
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/1874518

Zitieren

Gölzhäuser A, Eck W, Geyer W, et al. Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS. 2001;13:806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., & Grunze, M. (2001). Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS, 13, 806.
Gölzhäuser, Armin, Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. 2001. “Chemical Nanolithography with Electron Beams”. ADVANCED MATERIALS 13: 806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. (2001). Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS 13, 806.
Gölzhäuser, A., et al., 2001. Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS, 13, p 806.
A. Gölzhäuser, et al., “Chemical Nanolithography with Electron Beams”, ADVANCED MATERIALS, vol. 13, 2001, pp. 806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., Grunze, M.: Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS. 13, 806 (2001).
Gölzhäuser, Armin, Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. “Chemical Nanolithography with Electron Beams”. ADVANCED MATERIALS 13 (2001): 806.
Export

Markieren/ Markierung löschen
Markierte Publikationen

Open Data PUB

Suchen in

Google Scholar