Chemical Nanolithography with Electron Beams

Gölzhäuser A, Eck W, Geyer W, Stadler V, Weimann T, Hinze P, Grunze M (2001)
ADVANCED MATERIALS 13: 806.

Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | Englisch
 
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Autor*in
Gölzhäuser, ArminUniBi ; Eck, W.; Geyer, W.; Stadler, V.; Weimann, T.; Hinze, P.; Grunze, M.
Erscheinungsjahr
2001
Zeitschriftentitel
ADVANCED MATERIALS
Band
13
Seite(n)
806
ISSN
0935-9648
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/1874518

Zitieren

Gölzhäuser A, Eck W, Geyer W, et al. Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS. 2001;13:806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., & Grunze, M. (2001). Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS, 13, 806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. (2001). Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS 13, 806.
Gölzhäuser, A., et al., 2001. Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS, 13, p 806.
A. Gölzhäuser, et al., “Chemical Nanolithography with Electron Beams”, ADVANCED MATERIALS, vol. 13, 2001, pp. 806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., Grunze, M.: Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS. 13, 806 (2001).
Gölzhäuser, Armin, Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. “Chemical Nanolithography with Electron Beams”. ADVANCED MATERIALS 13 (2001): 806.

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