H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+)
Kohse-Höinghaus K, Stuhl F (1980)
The Journal of Chemical Physics 72(6): 3720-3726.
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| Veröffentlicht | Englisch
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Autor*in
Kohse-Höinghaus, KatharinaUniBi;
Stuhl, F.
Einrichtung
Erscheinungsjahr
1980
Zeitschriftentitel
The Journal of Chemical Physics
Band
72
Ausgabe
6
Seite(n)
3720-3726
ISSN
0021-9606
Page URI
https://pub.uni-bielefeld.de/record/1777950
Zitieren
Kohse-Höinghaus K, Stuhl F. H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+). The Journal of Chemical Physics. 1980;72(6):3720-3726.
Kohse-Höinghaus, K., & Stuhl, F. (1980). H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+). The Journal of Chemical Physics, 72(6), 3720-3726. https://doi.org/10.1063/1.439583
Kohse-Höinghaus, Katharina, and Stuhl, F. 1980. “H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+)”. The Journal of Chemical Physics 72 (6): 3720-3726.
Kohse-Höinghaus, K., and Stuhl, F. (1980). H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+). The Journal of Chemical Physics 72, 3720-3726.
Kohse-Höinghaus, K., & Stuhl, F., 1980. H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+). The Journal of Chemical Physics, 72(6), p 3720-3726.
K. Kohse-Höinghaus and F. Stuhl, “H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+)”, The Journal of Chemical Physics, vol. 72, 1980, pp. 3720-3726.
Kohse-Höinghaus, K., Stuhl, F.: H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+). The Journal of Chemical Physics. 72, 3720-3726 (1980).
Kohse-Höinghaus, Katharina, and Stuhl, F. “H2-laser photochemical study of the temperature dependent quenching of O2(b 1[Sigma]g+)”. The Journal of Chemical Physics 72.6 (1980): 3720-3726.
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