Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität

Westerwalbesloh TE (2003)
Gütersloh.

Dissertation | German

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Westerwalbesloh TE. Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität. Gütersloh; 2003.
Westerwalbesloh, T. E. (2003). Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität. Gütersloh.
Westerwalbesloh, T. E. (2003). Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität. Gütersloh.
Westerwalbesloh, T.E., 2003. Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität, Gütersloh.
T.E. Westerwalbesloh, Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität, Gütersloh: 2003.
Westerwalbesloh, T.E.: Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität. Gütersloh (2003).
Westerwalbesloh, Thomas E. Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität. Gütersloh, 2003.
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