Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten

Aschentrup A (2003)
Bielefeld (Germany): Bielefeld University.

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Bielefelder E-Dissertation | Deutsch
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Aschentrup A. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University; 2003.
Aschentrup, A. (2003). Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, A. (2003). Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
Aschentrup, A., 2003. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University.
A. Aschentrup, Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten, Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2003.
Aschentrup, A.: Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld University, Bielefeld (Germany) (2003).
Aschentrup, Andreas. Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten. Bielefeld (Germany): Bielefeld University, 2003.
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