Chemical Nanolithography with Electron Beams

Gölzhäuser A, Eck W, Geyer W, Stadler V, Weimann T, Hinze P, Grunze M (2001)
ADVANCED MATERIALS 13: 806.

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Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | Englisch
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ADVANCED MATERIALS
Band
13
Seite
806
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Gölzhäuser A, Eck W, Geyer W, et al. Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS. 2001;13:806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., & Grunze, M. (2001). Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS, 13, 806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. (2001). Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS 13, 806.
Gölzhäuser, A., et al., 2001. Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS, 13, p 806.
A. Gölzhäuser, et al., “Chemical Nanolithography with Electron Beams”, ADVANCED MATERIALS, vol. 13, 2001, pp. 806.
Gölzhäuser, A., Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., Grunze, M.: Chemical Nanolithography with Electron Beams. ADVANCED MATERIALS. 13, 806 (2001).
Gölzhäuser, Armin, Eck, W., Geyer, W., Stadler, V., Weimann, T., Hinze, P., and Grunze, M. “Chemical Nanolithography with Electron Beams”. ADVANCED MATERIALS 13 (2001): 806.

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