PUB - Publikationen an der Universität Bielefeld

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  2013 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 2343895

  Prunici, P.; Hamelmann, F.; Beyer, W.; Kurz, H.; Stiebig, H. (2013): Modelling of infrared optical constants for polycrystalline low pressure chemical vapour deposition ZnO:B films Journal of Applied Physics,113:(21):123104

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  2009 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2345328

  Lükermann, F.; Mönkemöller, V.; Kurz, H.; Sacher, M.; Hamelmann, F.; Stiebig, H.; Heinzmann, U. (2009): Surface modification of LPCVD ZNO-Films for silicon thin film solar cells. In: Proceedings of the 24th EU PVSEC. S. 2299-2303.

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  2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1589799

  Ivanova, T.; Gesheva, K. A.; Kalitzova, M.; Hamelmann, F.; Lükermann, F.; Heinzmann, U. (2009): Electrochromic mixed films based On WO3 and MoO3, obtained by an APCVD method JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS,11:(10): 1513-1516.

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  2006 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874432

  Wonisch, A.; Hamelmann, F.; Hachmann, W.; Heinzmann, U. (2006): Plasma Assisted Deposition of Tungsten Oxide / Silicon Oxide Multilayer Films with Sub-Nanometer Single Layers. In: Rainer Kassing; Plamen Petkov; Wilhelm Kulisch; Cyril Popov (Hrsg.): Functional Properties of Nanostructured Materials. Dordrecht: Springer. S. 351-354.

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  2006 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1601030

  Szekeres, A.; Nikolova, T.; Simeonov, S.; Gushterov, A.; Hamelmann, F.; Heinzmann, U. (2006): Plasma-assisted chemical vapor deposited silicon oxynitride as an alternative material for gate dielectric in MOS devices MICROELECTRONICS JOURNAL,37:(1): 64-70.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874437

  Gesheva, K.; Ivanova, T.; Steinman, E.; Hamelmann, F.; Heinzmann, U.; Brechling, A. (2005): Technology and characterization of CVD-grown mixed Mo/W oxide films and electrochromic devices made on their basis. In: ECS Proceedings PV 2005-09. S. 799-799.

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  2005 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1874434

  Ivanova, T.; Gesheva, K.; Hamelmann, F.; Hachmann, W.; Heinzmann, U.; Brechling, A. (2005): Plasma enhanced MOCVD of transition metal oxide thin films with a thickness between some hundred and less than one nanometer for optical applications. In: ECS Proceedings; PV 2005-09. S. 433-433.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604367

  Szekeres, A.; Simeonov, S.; Gushterov, A.; Nikolova, T.; Hamelmann, F.; Heinzmann, U. (2005): Electrical properties of plasma-assisted CVD deposited thin silicon oxynitride films JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS,7:(1): 553-556.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604354

  Hamelmann, F.; Heinzmann, U.; Szekeres, A.; Kirov, N.; Nikolova, T. (2005): Deposition of silicon oxide thin films in TEOS with addition of oxygen to the plasma ambient: IR spectra analysis JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS,7:(1): 389-392.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604360

  Hamelmann, F.; Gesheva, K.; Ivanova, T.; Szekeres, A.; Abrashev, M.; Heinzmann, U. (2005): Optical and electrochromic characterization of multilayered mixed metal oxide thin films JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS,7:(1): 393-396.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1873183

  Aschentrup, A.; Szekeres, A.; Gesheva, K.; Hamelmann, F.; Heinzmann, U.; Brechling, A. (2004): Plasma assisted deposition of thin carbon films from methane and the influence of the plasma parameters and additional gases Vacuum 76,76:(2-3): 139-142.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609091

  Hamelmann, F.; Heinzmann, U.; Siemling, U.; Bretthauer, F.; der Bruggen, J. V. (2004): Light-stimulated switching of azobenzene-containing self-assembled monolayers APPLIED SURFACE SCIENCE,222:(1-4): 1-5.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609015

  Hamelmann, F.; Brechling, A.; Aschentrup, A.; Heinzmann, U.; Jutzi, P.; Sandrock, J.; Siemeling, U.; Ivanova, T.; Szekeres, A.; Gesheva, K. (2004): Thin molybdenum oxide films produced by molybdenum pentacarbonyl 1-methylbutylisonitrile with plasma-assisted chemical vapor deposition THIN SOLID FILMS,446:(2): 167-171.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1606874

  Hamelmann, F.; Aschentrup, A.; Brechling, A.; Heinzmann, U.; Gushterov, A.; Szekeres, A.; Simeonov, S. (2004): Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a remote PECVD reactor and characterization of films produced under different conditions Vacuum,75:(4): 307-312.

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  2003 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1882887

  Hamelmann, F.; Brechling, A.; Aschentrup, A.; Heinzmann, U.; Jutzi, P.; Sandrock, J.; Siemeling, U. (2003): Thin Tungsten and Tungsten Oxide Films Produced by Tungsten Pentacarbonoyle Pentylisonitrile in a Remote Plasma Reactor. In: M Allendorf; F Maury; F Teyssandier (Hrsg.): Chemical Vapor Deposition CVD XVI ECS Proceedings.

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  2001 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1616209

  Hamelmann, F.; Aschentrup, A.; Schmalhorst, J. - M.; Kleineberg, U.; Heinzmann, U.; Dittmar, K.; Jutzi, P. (2001): Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD JOURNAL DE PHYSIQUE IV,11:(PR3): 431-436.

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  2000 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883586

  Klipp, A.; Petri, S. H. A.; Hamelmann, F.; Heinzmann, U.; Jutzi, P. (2000): The synthesis of Cyclopentadienyl silanes and disilanes and their fragmentation under thermal CVD conditions. In: Norbert Auer; Johann Weis (Hrsg.): Organosilicon Chemistry from Molecules to Materials IV, eds. N.Auner,J.Weis. VCH Weinheim: VCH. S. 806-806.

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  2000 | Dissertation | PUB-ID: 2433882

  Hamelmann, F. (2000): Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren. Aachen: Shaker.

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  2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1958189

  Hamelmann, F.; Haindl, G.; Aschentrup, A.; Klipp, A.; Kleineberg, U.; Jutzi, P.; Heinzmann, U. (2000): Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films. In: M.D. Allendorf; T.M. Besman (Hrsg.): Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV. S. 131.

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• [11]
  

  2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620849

  Hamelmann, F.; Haindl, G.; Schmalhorst, J. - M.; Aschentrup, A.; Majkova, E.; Kleineberg, U.; Heinzmann, U.; Klipp, A.; Jutzi, P.; Anopchenko, A.; Jergel, M.; Luby, S. (2000): Metal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD THIN SOLID FILMS,358:(1-2): 90-93.

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  2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620153

  Klipp, A.; Hamelmann, F.; Haindl, G.; Hartwich, J.; Kleineberg, U.; Jutzi, P.; Heinzmann, U. (2000): Pentamethylcyclopentadienyl disilane as a novel precursor for the CVD of thin silicon films CHEMICAL VAPOR DEPOSITION,6:(2): 63-66.

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  2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883600

  Hamelmann, F.; Klipp, A.; Petri, S. H. A.; Haindl, G.; Hartwich, J.; Kleineberg, U.; Jutzi, P.; Heinzmann, U. (2000): In situ controlled deposition of thin silicon films by hot filament MOCVD with (C5Me5) Si2H5 and (C5Me4H)SiH3 as silicon precursors. In: Norbert Auer; Johann Weis (Hrsg.): Organosilicon Chemistry IV: from Molecules to Materials. Weinheim: Wiley-VCH. S. 798-798.

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• [8]
  

  1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622128

  Luby, S.; Jergel, M.; Anopchenko, A.; Aschentrup, A.; Hamelmann, F.; Majkova, E.; Kleineberg, U.; Heinzmann, U. (1999): Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing APPLIED SURFACE SCIENCE,150:(1-4): 178-184.

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• [7]
  

  1999 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622647

  Kleineberg, U.; Menke, D.; Hamelmann, F.; Heinzmann, U.; Schmidt, O.; Fecher, G. H.; Schoenhense, G. (1999): Photoemission microscopy with microspot-XPS by use of undulator radiation and a high-throughput multilayer monochromator at BESSY. In: Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. ELSEVIER SCIENCE BV. (JOURNAL OF ELECTRON SPECTROSCOPY AND RELATED PHENOMENA, 103). S. 931-936.

  PUB | DOI | WoS
   
• [6]
  

  1999 | Zeitschriftenaufsatz | PUB-ID: 1883592

  Hamelmann, F.; Haindl, G.; Hartwich, J.; Klipp, A.; Majkova, E.; Kleineberg, U.; Jutzi, P.; Heinzmann, U. (1999): Metal/Silicon multilayers produced by low temperature MOCVD Mater.Res.Soc.Proc.,555: 19-19.

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• [5]
  

  1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1623447

  Hamelmann, F.; Petri, S. H. A.; Klipp, A.; Haindl, G.; Hartwich, J.; Dreeskornfeld, L.; Kleineberg, U.; Jutzi, P.; Heinzmann, U. (1999): W/Si multilayers deposited by hot-filament MOCVD THIN SOLID FILMS,338:(1-2): 70-74.

  PUB | DOI | WoS
   
• [4]
  

  1998 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1624974

  Stock, H. J.; Haindl, G.; Hamelmann, F.; Menke, D.; Wehmeyer, O.; Kleineberg, U.; Heinzmann, U.; Bulicke, P.; Fuchs, D.; Ulm, G. (1998): Carbon/titanium multilayers as soft-x-ray mirrors for the water window APPLIED OPTICS,37:(25): 6002-6005.

  PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
   
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  1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637888

  Senderak, R.; Jergel, M.; Luby, S.; Majkova, E.; Holy, V.; Haindl, G.; Hamelmann, F.; Kleineberg, U.; Heinzmann, U. (1997): Thermal stability of W1-xSix/Si multilayers under rapid thermal annealing JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,81:(5): 2229-2235.

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  1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637796

  Stock, H. J.; Hamelmann, F.; Kleineberg, U.; Menke, D.; Schmiedeskamp, B.; Osterried, K.; Heidemann, K. F.; Heinzmann, U. (1997): Carbon buffer layers for smoothing superpolished glass surfaces as substrates for molybdenum/silicon multilayer soft-x-ray mirrors APPLIED OPTICS,36:(7): 1650-1654.

  PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
   
• [1]
  

  1996 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1638117

  D'Anna, E.; Luches, A.; Martino, M.; Brunel, M.; Majkova, E.; Luby, S.; Senderak, R.; Jergel, M.; Hamelmann, F.; Kleineberg, U.; Heinzmann, U. (1996): Thermal stability of W1-xSix/Si multilayer reflective coatings under high intensity excimer laser pulses. In: Applied Surface Science. Elsevier. (Applied Surface Science, 106). S. 166-170.

  PUB | DOI | WoS