PUB - Publikationen an der Universität Bielefeld

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  2013 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 2343895

  Prunici, P., Hamelmann, F., Beyer, W., Kurz, H. & Stiebig, H. (2013). Modelling of infrared optical constants for polycrystalline low pressure chemical vapour deposition ZnO:B films. Journal of Applied Physics, 113(21): 123104. AIP Publishing. doi:10.1063/1.4795809.

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  2009 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2345328

  Lükermann, F., Mönkemöller, V., Kurz, H., Sacher, M., Hamelmann, F., Stiebig, H. & Heinzmann, U. (2009). Surface modification of LPCVD ZNO-Films for silicon thin film solar cells. Proceedings of the 24th EU PVSEC (S. 2299-2303). Gehalten auf der 24th EU PVSEC. doi:10.4229/24thEUPVSEC2009-3BO.9.4.

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  2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1589799

  Ivanova, T., Gesheva, K.A., Kalitzova, M., Hamelmann, F., Lükermann, F. & Heinzmann, U. (2009). Electrochromic mixed films based On WO3 and MoO3, obtained by an APCVD method. JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 11(10), 1513-1516. NATL INST OPTOELECTRONICS.

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  2006 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874432

  Wonisch, A., Hamelmann, F., Hachmann, W. & Heinzmann, U. (2006). Plasma Assisted Deposition of Tungsten Oxide / Silicon Oxide Multilayer Films with Sub-Nanometer Single Layers. In R. Kassing, P. Petkov, W. Kulisch & C. Popov (Hrsg.), Functional Properties of Nanostructured Materials (S. 351-354). Dordrecht: Springer. doi:10.1007/1-4020-4594-8_27.

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  2006 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1601030

  Szekeres, A., Nikolova, T., Simeonov, S., Gushterov, A., Hamelmann, F. & Heinzmann, U. (2006). Plasma-assisted chemical vapor deposited silicon oxynitride as an alternative material for gate dielectric in MOS devices. MICROELECTRONICS JOURNAL, 37(1), 64-70. ELSEVIER SCI LTD. doi:10.1016/j.mejo.2005.06.013.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874437

  Gesheva, K., Ivanova, T., Steinman, E., Hamelmann, F., Heinzmann, U. & Brechling, A. (2005). Technology and characterization of CVD-grown mixed Mo/W oxide films and electrochromic devices made on their basis. ECS Proceedings PV 2005-09 (S. 799-799).

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  2005 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1874434

  Ivanova, T., Gesheva, K., Hamelmann, F., Hachmann, W., Heinzmann, U. & Brechling, A. (2005). Plasma enhanced MOCVD of transition metal oxide thin films with a thickness between some hundred and less than one nanometer for optical applications. ECS Proceedings; PV 2005-09 (S. 433-433).

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604367

  Szekeres, A., Simeonov, S., Gushterov, A., Nikolova, T., Hamelmann, F. & Heinzmann, U. (2005). Electrical properties of plasma-assisted CVD deposited thin silicon oxynitride films (JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS), 7(1), 553-556. NATL INST OPTOELECTRONICS.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604354

  Hamelmann, F., Heinzmann, U., Szekeres, A., Kirov, N. & Nikolova, T. (2005). Deposition of silicon oxide thin films in TEOS with addition of oxygen to the plasma ambient: IR spectra analysis (JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS), 7(1), 389-392. NATL INST OPTOELECTRONICS.

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  2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604360

  Hamelmann, F., Gesheva, K., Ivanova, T., Szekeres, A., Abrashev, M. & Heinzmann, U. (2005). Optical and electrochromic characterization of multilayered mixed metal oxide thin films (JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS), 7(1), 393-396. NATL INST OPTOELECTRONICS.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1873183

  Aschentrup, A., Szekeres, A., Gesheva, K., Hamelmann, F., Heinzmann, U. & Brechling, A. (2004). Plasma assisted deposition of thin carbon films from methane and the influence of the plasma parameters and additional gases. Vacuum 76, 76(2-3), 139-142. Elsevier BV. doi:10.1016/j.vacuum.2004.07.074.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609091

  Hamelmann, F., Heinzmann, U., Siemling, U., Bretthauer, F. & der Bruggen, J.V. (2004). Light-stimulated switching of azobenzene-containing self-assembled monolayers. APPLIED SURFACE SCIENCE, 222(1-4), 1-5. ELSEVIER SCIENCE BV. doi:10.1016/j.apsusc.2003.08.006.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609015

  Hamelmann, F., Brechling, A., Aschentrup, A., Heinzmann, U., Jutzi, P., Sandrock, J., Siemeling, U., Ivanova, T., Szekeres, A. & Gesheva, K. (2004). Thin molybdenum oxide films produced by molybdenum pentacarbonyl 1-methylbutylisonitrile with plasma-assisted chemical vapor deposition. THIN SOLID FILMS, 446(2), 167-171. ELSEVIER SCIENCE SA. doi:10.1016/j.tsf.2003.09.045.

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  2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1606874

  Hamelmann, F., Aschentrup, A., Brechling, A., Heinzmann, U., Gushterov, A., Szekeres, A. & Simeonov, S. (2004). Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a remote PECVD reactor and characterization of films produced under different conditions. Vacuum, 75(4), 307-312. PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD. doi:10.1016/j.vacuum.2004.03.012.

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  2003 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1882887

  Hamelmann, F., Brechling, A., Aschentrup, A., Heinzmann, U., Jutzi, P., Sandrock, J. & Siemeling, U. (2003). Thin Tungsten and Tungsten Oxide Films Produced by Tungsten Pentacarbonoyle Pentylisonitrile in a Remote Plasma Reactor. In M. Allendorf, F. Maury & F. Teyssandier (Hrsg.), Chemical Vapor Deposition CVD XVI ECS Proceedings.

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  2001 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1616209

  Hamelmann, F., Aschentrup, A., Schmalhorst, J.-M., Kleineberg, U., Heinzmann, U., Dittmar, K. & Jutzi, P. (2001). Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD (JOURNAL DE PHYSIQUE IV), 11(PR3), 431-436. E D P SCIENCES.

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  2000 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883586

  Klipp, A., Petri, S.H.A., Hamelmann, F., Heinzmann, U. & Jutzi, P. (2000). The synthesis of Cyclopentadienyl silanes and disilanes and their fragmentation under thermal CVD conditions. In N. Auer & J. Weis (Hrsg.), Organosilicon Chemistry from Molecules to Materials IV, eds. N.Auner,J.Weis (S. 806-806). Gehalten auf der 4. Münchner Silicontage, VCH Weinheim: VCH.

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  2000 | Dissertation | PUB-ID: 2433882

  Hamelmann, F. (2000). Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren (Berichte aus der Physik). Aachen: Shaker.

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  2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1958189

  Hamelmann, F., Haindl, G., Aschentrup, A., Klipp, A., Kleineberg, U., Jutzi, P. & Heinzmann, U. (2000). Plasma enhanced MOCVD of smooth nanometer-sized Metal/Silicon Single- and multilayer films. In M.D. Allendorf & T.M. Besman (Hrsg.), Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV (S. 131). Gehalten auf der Chemical Vapor Deposition CVD XV.

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  2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620849

  Hamelmann, F., Haindl, G., Schmalhorst, J.-M., Aschentrup, A., Majkova, E., Kleineberg, U., Heinzmann, U., Klipp, A., Jutzi, P., Anopchenko, A., Jergel, M. & Luby, S. (2000). Metal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD. THIN SOLID FILMS, 358(1-2), 90-93. ELSEVIER SCIENCE SA. doi:10.1016/S0040-6090(99)00695-1.

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  2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620153

  Klipp, A., Hamelmann, F., Haindl, G., Hartwich, J., Kleineberg, U., Jutzi, P. & Heinzmann, U. (2000). Pentamethylcyclopentadienyl disilane as a novel precursor for the CVD of thin silicon films. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, 6(2), 63-66. WILEY-V C H VERLAG GMBH. doi:10.1002/(SICI)1521-3862(200004)6:2<63::AID-CVDE63>3.0.CO;2-Q.

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• [9]
  

  2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883600

  Hamelmann, F., Klipp, A., Petri, S.H.A., Haindl, G., Hartwich, J., Kleineberg, U., Jutzi, P. & Heinzmann, U. (2000). In situ controlled deposition of thin silicon films by hot filament MOCVD with (C5Me5) Si2H5 and (C5Me4H)SiH3 as silicon precursors. In N. Auer & J. Weis (Hrsg.), Organosilicon Chemistry IV: from Molecules to Materials (S. 798-798). Gehalten auf der 4. Münchner Silicontage, Weinheim: Wiley-VCH.

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  1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622128

  Luby, S., Jergel, M., Anopchenko, A., Aschentrup, A., Hamelmann, F., Majkova, E., Kleineberg, U. & Heinzmann, U. (1999). Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing. APPLIED SURFACE SCIENCE, 150(1-4), 178-184. ELSEVIER SCIENCE BV. doi:10.1016/S0169-4332(99)00243-3.

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• [7]
  

  1999 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622647

  Kleineberg, U., Menke, D., Hamelmann, F., Heinzmann, U., Schmidt, O., Fecher, G.H. & Schoenhense, G. (1999). Photoemission microscopy with microspot-XPS by use of undulator radiation and a high-throughput multilayer monochromator at BESSY (JOURNAL OF ELECTRON SPECTROSCOPY AND RELATED PHENOMENA). Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena (S. 931-936). ELSEVIER SCIENCE BV. doi:10.1016/S0368-2048(98)00374-0.

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  1999 | Zeitschriftenaufsatz | PUB-ID: 1883592

  Hamelmann, F., Haindl, G., Hartwich, J., Klipp, A., Majkova, E., Kleineberg, U., Jutzi, P. & Heinzmann, U. (1999). Metal/Silicon multilayers produced by low temperature MOCVD. Mater.Res.Soc.Proc., 555, 19-19.

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• [5]
  

  1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1623447

  Hamelmann, F., Petri, S.H.A., Klipp, A., Haindl, G., Hartwich, J., Dreeskornfeld, L., Kleineberg, U., Jutzi, P. & Heinzmann, U. (1999). W/Si multilayers deposited by hot-filament MOCVD. THIN SOLID FILMS, 338(1-2), 70-74. ELSEVIER SCIENCE SA. doi:10.1016/S0040-6090(98)00996-1.

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  1998 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1624974

  Stock, H.J., Haindl, G., Hamelmann, F., Menke, D., Wehmeyer, O., Kleineberg, U., Heinzmann, U., Bulicke, P., Fuchs, D. & Ulm, G. (1998). Carbon/titanium multilayers as soft-x-ray mirrors for the water window. APPLIED OPTICS, 37(25), 6002-6005. OPTICAL SOC AMER. doi:10.1364/AO.37.006002.

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  1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637888

  Senderak, R., Jergel, M., Luby, S., Majkova, E., Holy, V., Haindl, G., Hamelmann, F., Kleineberg, U. & Heinzmann, U. (1997). Thermal stability of W1-xSix/Si multilayers under rapid thermal annealing. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 81(5), 2229-2235. AMER INST PHYSICS. doi:10.1063/1.364273.

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  1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637796

  Stock, H.J., Hamelmann, F., Kleineberg, U., Menke, D., Schmiedeskamp, B., Osterried, K., Heidemann, K.F. & Heinzmann, U. (1997). Carbon buffer layers for smoothing superpolished glass surfaces as substrates for molybdenum/silicon multilayer soft-x-ray mirrors. APPLIED OPTICS, 36(7), 1650-1654. OPTICAL SOC AMER. doi:10.1364/AO.36.001650.

  PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
   
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  1996 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1638117

  D'Anna, E., Luches, A., Martino, M., Brunel, M., Majkova, E., Luby, S., Senderak, R., Jergel, M., Hamelmann, F., Kleineberg, U. & Heinzmann, U. (1996). Thermal stability of W1-xSix/Si multilayer reflective coatings under high intensity excimer laser pulses (Applied Surface Science). Applied Surface Science (S. 166-170). Elsevier. doi:10.1016/S0169-4332(96)00365-0.

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