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  • [30]
    2013 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 2343895
    P. Prunici, F. Hamelmann, W. Beyer, H. Kurz, and H. Stiebig, “Modelling of infrared optical constants for polycrystalline low pressure chemical vapour deposition ZnO:B films”, Journal of Applied Physics, 2013, 113, : 123104.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [29]
    2009 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 2345328 OA
    F. Lükermann, V. Mönkemöller, H. Kurz, M. Sacher, F. Hamelmann, H. Stiebig, and U. Heinzmann, in Proceedings of the 24th EU PVSEC, 2009, p. 2299-2303.
    PUB | PDF | DOI
     
  • [28]
    2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1589799
    T. Ivanova, K. A. Gesheva, M. Kalitzova, F. Hamelmann, F. Lükermann, and U. Heinzmann, “Electrochromic mixed films based On WO3 and MoO3, obtained by an APCVD method”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2009, 11, 1513-1516.
    PUB | WoS
     
  • [27]
    2006 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874432
    A. Wonisch, F. Hamelmann, W. Hachmann, and U. Heinzmann, in Functional Properties of Nanostructured Materials (Eds.: R. Kassing, P. Petkov, W. Kulisch, C. Popov), Springer, Dordrecht, 2006, p. 351-354.
    PUB | DOI
     
  • [26]
    2006 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1601030
    A. Szekeres, T. Nikolova, S. Simeonov, A. Gushterov, F. Hamelmann, and U. Heinzmann, “Plasma-assisted chemical vapor deposited silicon oxynitride as an alternative material for gate dielectric in MOS devices”, MICROELECTRONICS JOURNAL, 2006, 37, 64-70.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [25]
    2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874437
    K. Gesheva, T. Ivanova, E. Steinman, F. Hamelmann, U. Heinzmann, and A. Brechling, in ECS Proceedings PV 2005-09, 2005, p. 799-799.
    PUB
     
  • [24]
    2005 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1874434
    T. Ivanova, K. Gesheva, F. Hamelmann, W. Hachmann, U. Heinzmann, and A. Brechling, in ECS Proceedings; PV 2005-09, 2005, p. 433-433.
    PUB
     
  • [23]
    2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604367
    A. Szekeres, S. Simeonov, A. Gushterov, T. Nikolova, F. Hamelmann, and U. Heinzmann, “Electrical properties of plasma-assisted CVD deposited thin silicon oxynitride films”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2005, 7, 553-556.
    PUB | WoS
     
  • [22]
    2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604354
    F. Hamelmann, U. Heinzmann, A. Szekeres, N. Kirov, and T. Nikolova, “Deposition of silicon oxide thin films in TEOS with addition of oxygen to the plasma ambient: IR spectra analysis”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2005, 7, 389-392.
    PUB | WoS
     
  • [21]
    2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604360
    F. Hamelmann, K. Gesheva, T. Ivanova, A. Szekeres, M. Abrashev, and U. Heinzmann, “Optical and electrochromic characterization of multilayered mixed metal oxide thin films”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2005, 7, 393-396.
    PUB | WoS
     
  • [20]
    2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1873183
    A. Aschentrup, A. Szekeres, K. Gesheva, F. Hamelmann, U. Heinzmann, and A. Brechling, “Plasma assisted deposition of thin carbon films from methane and the influence of the plasma parameters and additional gases”, Vacuum 76, 2004, 76, 139-142.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [19]
    2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609091
    F. Hamelmann, U. Heinzmann, U. Siemling, F. Bretthauer, and J. V. der Bruggen, “Light-stimulated switching of azobenzene-containing self-assembled monolayers”, APPLIED SURFACE SCIENCE, 2004, 222, 1-5.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [18]
    2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609015
    F. Hamelmann, A. Brechling, A. Aschentrup, U. Heinzmann, P. Jutzi, J. Sandrock, U. Siemeling, T. Ivanova, A. Szekeres, and K. Gesheva, “Thin molybdenum oxide films produced by molybdenum pentacarbonyl 1-methylbutylisonitrile with plasma-assisted chemical vapor deposition”, THIN SOLID FILMS, 2004, 446, 167-171.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [17]
    2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1606874
    F. Hamelmann, A. Aschentrup, A. Brechling, U. Heinzmann, A. Gushterov, A. Szekeres, and S. Simeonov, “Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a remote PECVD reactor and characterization of films produced under different conditions”, Vacuum, 2004, 75, 307-312.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [16]
    2003 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1882887
    F. Hamelmann, A. Brechling, A. Aschentrup, U. Heinzmann, P. Jutzi, J. Sandrock, and U. Siemeling, in Chemical Vapor Deposition CVD XVI ECS Proceedings (Eds.: M. Allendorf, F. Maury, F. Teyssandier), 2003.
    PUB
     
  • [15]
    2001 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1616209
    F. Hamelmann, A. Aschentrup, J. - M. Schmalhorst, U. Kleineberg, U. Heinzmann, K. Dittmar, and P. Jutzi, “Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD”, JOURNAL DE PHYSIQUE IV, 2001, 11, 431-436.
    PUB | WoS
     
  • [14]
    2000 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883586
    A. Klipp, S. H. A. Petri, F. Hamelmann, U. Heinzmann, and P. Jutzi, in Organosilicon Chemistry from Molecules to Materials IV, eds. N.Auner,J.Weis (Eds.: N. Auer, J. Weis), Vch, VCH Weinheim, 2000, p. 806-806.
    PUB
     
  • [13]
    2000 | Dissertation | PUB-ID: 2433882
    F. Hamelmann, Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren, Shaker, Aachen, 2000.
    PUB
     
  • [12]
    2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1958189
    F. Hamelmann, G. Haindl, A. Aschentrup, A. Klipp, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, in Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV (Eds.: M.D. Allendorf, T.M. Besman), 2000, p. 131.
    PUB
     
  • [11]
    2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620849
    F. Hamelmann, G. Haindl, J. - M. Schmalhorst, A. Aschentrup, E. Majkova, U. Kleineberg, U. Heinzmann, A. Klipp, P. Jutzi, A. Anopchenko, et al., “Metal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD”, THIN SOLID FILMS, 2000, 358, 90-93.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [10]
    2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620153
    A. Klipp, F. Hamelmann, G. Haindl, J. Hartwich, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, “Pentamethylcyclopentadienyl disilane as a novel precursor for the CVD of thin silicon films”, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, 2000, 6, 63-66.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [9]
    2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883600
    F. Hamelmann, A. Klipp, S. H. A. Petri, G. Haindl, J. Hartwich, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, in Organosilicon Chemistry IV: from Molecules to Materials (Eds.: N. Auer, J. Weis), Wiley-Vch, Weinheim, 2000, p. 798-798.
    PUB
     
  • [8]
    1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622128
    S. Luby, M. Jergel, A. Anopchenko, A. Aschentrup, F. Hamelmann, E. Majkova, U. Kleineberg, and U. Heinzmann, “Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing”, APPLIED SURFACE SCIENCE, 1999, 150, 178-184.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [7]
    1999 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622647
    U. Kleineberg, D. Menke, F. Hamelmann, U. Heinzmann, O. Schmidt, G. H. Fecher, and G. Schoenhense, in Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, Elsevier Science Bv, 1999, p. 931-936.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [6]
    1999 | Zeitschriftenaufsatz | PUB-ID: 1883592
    F. Hamelmann, G. Haindl, J. Hartwich, A. Klipp, E. Majkova, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, “Metal/Silicon multilayers produced by low temperature MOCVD”, Mater.Res.Soc.Proc., 1999, 555, 19-19.
    PUB
     
  • [5]
    1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1623447
    F. Hamelmann, S. H. A. Petri, A. Klipp, G. Haindl, J. Hartwich, L. Dreeskornfeld, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, “W/Si multilayers deposited by hot-filament MOCVD”, THIN SOLID FILMS, 1999, 338, 70-74.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [4]
    1998 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1624974
    H. J. Stock, G. Haindl, F. Hamelmann, D. Menke, O. Wehmeyer, U. Kleineberg, U. Heinzmann, P. Bulicke, D. Fuchs, and G. Ulm, “Carbon/titanium multilayers as soft-x-ray mirrors for the water window”, APPLIED OPTICS, 1998, 37, 6002-6005.
    PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
     
  • [3]
    1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637888
    R. Senderak, M. Jergel, S. Luby, E. Majkova, V. Holy, G. Haindl, F. Hamelmann, U. Kleineberg, and U. Heinzmann, “Thermal stability of W1-xSix/Si multilayers under rapid thermal annealing”, JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1997, 81, 2229-2235.
    PUB | DOI | WoS
     
  • [2]
    1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637796
    H. J. Stock, F. Hamelmann, U. Kleineberg, D. Menke, B. Schmiedeskamp, K. Osterried, K. F. Heidemann, and U. Heinzmann, “Carbon buffer layers for smoothing superpolished glass surfaces as substrates for molybdenum/silicon multilayer soft-x-ray mirrors”, APPLIED OPTICS, 1997, 36, 1650-1654.
    PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
     
  • [1]
    1996 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1638117
    E. D'Anna, A. Luches, M. Martino, M. Brunel, E. Majkova, S. Luby, R. Senderak, M. Jergel, F. Hamelmann, U. Kleineberg, et al., in Applied Surface Science, Elsevier, 1996, p. 166-170.
    PUB | DOI | WoS
     

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