Frank Hamelmann
PEVZ-ID
30 Publikationen
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2013 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 2343895P. Prunici, F. Hamelmann, W. Beyer, H. Kurz, and H. Stiebig, “Modelling of infrared optical constants for polycrystalline low pressure chemical vapour deposition ZnO:B films”, Journal of Applied Physics, 2013, 113, : 123104.PUB | DOI | WoS
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2009 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1589799T. Ivanova, K. A. Gesheva, M. Kalitzova, F. Hamelmann, F. Lükermann, and U. Heinzmann, “Electrochromic mixed films based On WO3 and MoO3, obtained by an APCVD method”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2009, 11, 1513-1516.PUB | WoS
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2006 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1601030A. Szekeres, T. Nikolova, S. Simeonov, A. Gushterov, F. Hamelmann, and U. Heinzmann, “Plasma-assisted chemical vapor deposited silicon oxynitride as an alternative material for gate dielectric in MOS devices”, MICROELECTRONICS JOURNAL, 2006, 37, 64-70.PUB | DOI | WoS
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2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1874437K. Gesheva, T. Ivanova, E. Steinman, F. Hamelmann, U. Heinzmann, and A. Brechling, in ECS Proceedings PV 2005-09, 2005, p. 799-799.PUB
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2005 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1874434T. Ivanova, K. Gesheva, F. Hamelmann, W. Hachmann, U. Heinzmann, and A. Brechling, in ECS Proceedings; PV 2005-09, 2005, p. 433-433.PUB
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2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604367A. Szekeres, S. Simeonov, A. Gushterov, T. Nikolova, F. Hamelmann, and U. Heinzmann, “Electrical properties of plasma-assisted CVD deposited thin silicon oxynitride films”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2005, 7, 553-556.PUB | WoS
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2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604354F. Hamelmann, U. Heinzmann, A. Szekeres, N. Kirov, and T. Nikolova, “Deposition of silicon oxide thin films in TEOS with addition of oxygen to the plasma ambient: IR spectra analysis”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2005, 7, 389-392.PUB | WoS
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2005 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1604360F. Hamelmann, K. Gesheva, T. Ivanova, A. Szekeres, M. Abrashev, and U. Heinzmann, “Optical and electrochromic characterization of multilayered mixed metal oxide thin films”, JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2005, 7, 393-396.PUB | WoS
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2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1873183A. Aschentrup, A. Szekeres, K. Gesheva, F. Hamelmann, U. Heinzmann, and A. Brechling, “Plasma assisted deposition of thin carbon films from methane and the influence of the plasma parameters and additional gases”, Vacuum 76, 2004, 76, 139-142.PUB | DOI | WoS
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2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1609015F. Hamelmann, A. Brechling, A. Aschentrup, U. Heinzmann, P. Jutzi, J. Sandrock, U. Siemeling, T. Ivanova, A. Szekeres, and K. Gesheva, “Thin molybdenum oxide films produced by molybdenum pentacarbonyl 1-methylbutylisonitrile with plasma-assisted chemical vapor deposition”, THIN SOLID FILMS, 2004, 446, 167-171.PUB | DOI | WoS
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2004 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1606874F. Hamelmann, A. Aschentrup, A. Brechling, U. Heinzmann, A. Gushterov, A. Szekeres, and S. Simeonov, “Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a remote PECVD reactor and characterization of films produced under different conditions”, Vacuum, 2004, 75, 307-312.PUB | DOI | WoS
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2003 | Sammelwerksbeitrag | PUB-ID: 1882887F. Hamelmann, A. Brechling, A. Aschentrup, U. Heinzmann, P. Jutzi, J. Sandrock, and U. Siemeling, in Chemical Vapor Deposition CVD XVI ECS Proceedings (Eds.: M. Allendorf, F. Maury, F. Teyssandier), 2003.PUB
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2000 | Sammelwerksbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883586A. Klipp, S. H. A. Petri, F. Hamelmann, U. Heinzmann, and P. Jutzi, in Organosilicon Chemistry from Molecules to Materials IV, eds. N.Auner,J.Weis (Eds.: N. Auer, J. Weis), Vch, VCH Weinheim, 2000, p. 806-806.PUB
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2000 | Dissertation | PUB-ID: 2433882F. Hamelmann, Herstellung von Metall-Silizium-Multischichten mit dem MOCVD-Verfahren, Shaker, Aachen, 2000.PUB
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2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1958189F. Hamelmann, G. Haindl, A. Aschentrup, A. Klipp, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, in Chemical Vapor Deposition CVD XV, ECS Proc. PV (Eds.: M.D. Allendorf, T.M. Besman), 2000, p. 131.PUB
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2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620849F. Hamelmann, G. Haindl, J. - M. Schmalhorst, A. Aschentrup, E. Majkova, U. Kleineberg, U. Heinzmann, A. Klipp, P. Jutzi, A. Anopchenko, et al., “Metal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD”, THIN SOLID FILMS, 2000, 358, 90-93.PUB | DOI | WoS
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2000 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1620153A. Klipp, F. Hamelmann, G. Haindl, J. Hartwich, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, “Pentamethylcyclopentadienyl disilane as a novel precursor for the CVD of thin silicon films”, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, 2000, 6, 63-66.PUB | DOI | WoS
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2000 | Konferenzbeitrag | Veröffentlicht | PUB-ID: 1883600F. Hamelmann, A. Klipp, S. H. A. Petri, G. Haindl, J. Hartwich, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, in Organosilicon Chemistry IV: from Molecules to Materials (Eds.: N. Auer, J. Weis), Wiley-Vch, Weinheim, 2000, p. 798-798.PUB
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1999 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1622128S. Luby, M. Jergel, A. Anopchenko, A. Aschentrup, F. Hamelmann, E. Majkova, U. Kleineberg, and U. Heinzmann, “Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing”, APPLIED SURFACE SCIENCE, 1999, 150, 178-184.PUB | DOI | WoS
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1999 | Zeitschriftenaufsatz | PUB-ID: 1883592F. Hamelmann, G. Haindl, J. Hartwich, A. Klipp, E. Majkova, U. Kleineberg, P. Jutzi, and U. Heinzmann, “Metal/Silicon multilayers produced by low temperature MOCVD”, Mater.Res.Soc.Proc., 1999, 555, 19-19.PUB
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1998 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1624974H. J. Stock, G. Haindl, F. Hamelmann, D. Menke, O. Wehmeyer, U. Kleineberg, U. Heinzmann, P. Bulicke, D. Fuchs, and G. Ulm, “Carbon/titanium multilayers as soft-x-ray mirrors for the water window”, APPLIED OPTICS, 1998, 37, 6002-6005.PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
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1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637888R. Senderak, M. Jergel, S. Luby, E. Majkova, V. Holy, G. Haindl, F. Hamelmann, U. Kleineberg, and U. Heinzmann, “Thermal stability of W1-xSix/Si multilayers under rapid thermal annealing”, JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1997, 81, 2229-2235.PUB | DOI | WoS
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1997 | Zeitschriftenaufsatz | Veröffentlicht | PUB-ID: 1637796H. J. Stock, F. Hamelmann, U. Kleineberg, D. Menke, B. Schmiedeskamp, K. Osterried, K. F. Heidemann, and U. Heinzmann, “Carbon buffer layers for smoothing superpolished glass surfaces as substrates for molybdenum/silicon multilayer soft-x-ray mirrors”, APPLIED OPTICS, 1997, 36, 1650-1654.PUB | DOI | WoS | PubMed | Europe PMC
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